CVD화학기상증착지자료(資料) 올리겟습니다.
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작성일 19-06-16 19:17
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CVD화학기상증착지자료(資料) 올리겟습니다.
설명
순서
CVD (화학시상증착) 공정
화학기상증착 공정이란
화학 reaction 을 수반하는 증착기술로서 부도체, 반도체, 그리고 도체 박막의 증착에 있어 모두 사용될 수 있는 기술
`기체상태의 혼합물을 가열된 기판 표면에서 reaction 시켜 생성물을 기판 표면에 증착시키는 기술`
CVD 공정이 유형들
APCVD (Atmospheric Dressure CVD)
LPCVD (Low Pressure CVD)
UHVCVD (Ultra-high vaccum CVD) 초고진공화학기상증착
DLICVD (Direct liquid injection CVD)
AACVD (Aerosol-assisted CVD)
MPCVD (Microwave Plasma CVD)
PECVD (Plasma Enhanced CVD)
ALCVD (Atomic Layer CVD)
APCVD (Atmospheric Dressure CVD)
고순도 고품질의 박막을 형성하는 기술로 저온에서 기화한 휘발성의 금속염(Vapor)과 고온에 가열된 도금할 고체와의 접촉으로 고온분해, 고온reaction 하고 여기에 광에너지를 조사시켜 저온에서 물체표면에 금속 또는 금속화합물층을 석출시키는 방법으로 화학 Gas들의 화학적 reaction 방법을 이용하여 막을 증착시키는데 이때 Chamber 상태가 대기압 조건에서 이루어지는 증착.
LPCVD (Low Pressure CVD)
상압보다 낮는 압력에서 Wafer 위에 필요 물질을 Deposition하는 공정에서 사용reaction Gas들의 화학적 reaction 방법을 이용하여 막을 증착시키는 방법으로서 확산공정에서 사용.
PECVD (Plasma Enhanced CVD)
강한 전압으로 야기된 plasma를 이용하여 reaction 물질을 활성화시켜서 기상으로 증착시키는 방법 또는 장치. TFT-LCD에서는 insulator층과 a-Si 증착에 사용한다..ppt( 35 )
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